Доклад: Исследование процесса плазменного осаждения нитрида кремния для МОЭМС применений
Докладчик
Соавтор(ы)
Ткаченко Алексей Вячеславович, Платонов Даниил Дмитриевич, Юркин Никита Олегович, Иванова Ольга Кирилловна, Дятлов Владимир Денисович
Тип доклада
Устный
Секция программы
Дата и время
пятница, 07 фев (начало в 14:15)
Видео запись
Видео доклада ещё не загружено.
Обсуждение доклада
Новых тем пока нет
Создайте тему для обсуждения, если у вас есть вопросы или предложения по докладу.
Другие доклады секции: 15
10:00 |
Термодинамические особенности синтеза пленок HgTe/GaAs методом молекулярно-лучевой эпитаксии
10:15 |
Перспективы выращивания монокристаллов InSb в направлении [553]
Тихонов Дмитрий Александрович•ГИРЕДМЕТ
Тихонов Дмитрий Александрович•ГИРЕДМЕТ
10:30 |
Влияние режимов отжига контактных систем Si-Al и Si-Ti-Al на коэффициент усиления n-p-n биполярных транзисторов
Попов Константин Алексеевич•АО ″НПО ″ОРИОН″
Попов Константин Алексеевич•АО ″НПО ″ОРИОН″
11:00 |
Исследование влияния длины цепи стабилизирующего амина на синтез коллоидных квантовых точек PbS
Матюхин Павел Борисович•Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии Российской академии наук
Матюхин Павел Борисович•Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии Российской академии наук
11:15 |
Сравнительный анализ процессов переноса в слоях коллоидных квантовых точек перовскитов CsPbBr3 методом PUMP-PROBE
Лочин Георгий Александрович•ФИЦ ПХФ и МХ РАН
Лочин Георгий Александрович•ФИЦ ПХФ и МХ РАН
11:30 |
Перерыв
11:45 |
Электрофизические свойства фоточувствительных слоев на основе коллоидных квантовых точек
Федоров Артем•АО ″НПО ″ОРИОН″
Федоров Артем•АО ″НПО ″ОРИОН″
13:00 |
Обед
14:00 |
Особенности процессов фотолитографии для изготовления матричных фоточувствительных структур на основе коллоидных квантовых точек
Петрушина Виктория Алексеевна•АО ″НПО ″ОРИОН″
Петрушина Виктория Алексеевна•АО ″НПО ″ОРИОН″
14:15 |
Исследование процесса плазменного осаждения нитрида кремния для МОЭМС применений
14:30 |
Разработка процесса плазмохимического травления нитрида кремния для МОЭМС применения
Дятлов Владимир Денисович•Маппер
Дятлов Владимир Денисович•Маппер
14:45 |
Технологические аспекты плазменного осаждения
аморфного кремния для МОЭМС
Иванова Ольга Кирилловна•Маппер
Иванова Ольга Кирилловна•Маппер
15:00 |
Замена лигандов и её влияние на фотоэлектрические свойства
тонкопленочных структур на основе квантовых точек селенида ртути
Миленкович Теодора•МФТИ
Миленкович Теодора•МФТИ
15:15 |
Перерыв (подсчёт баллов)