Архив статей

Численное моделирование режимов обработки поверхности GaN в BCl3-плазме высокочастотного индукционного разряда (2018)
Выпуск: Том 6, №5 (2018)
Авторы: Кобелев Антон Андреевич, Андрианов Николай Александрович, Барсуков Юрий Владимирович, Смирнов Александр Сергеевич

Обработка поверхности GaN (без травления материала) в высокочастотном индукционном (ВЧИ) разряде в газе BCl3 является перспективным методом изготовления омических контактов с низким сопротивлением для полевых транзисторов на основе GaN. В ряде случаев такая обработка в BCl3-плазме приводит к деградации омического контакта, так как радикалы BClx склонны к образованию полимеров типа BxCly. В настоящей работе рассмотрены механизмы воздействия BCl3 плазмы ВЧИ-разряда на поверхность GaN. С помощью численного моделирования плазмы определены соответствующие значения пороговых энергий ионов, при которых происходит удаление полимерной пленки BxCly и инициируется процесс травления GaN. Показано, что промежуточный режим плазменной обработки поверхности без осаждения полимера и без травления GaN реализуется в интервале энергий ионов 32÷60 эВ.

Сохранить в закладках
Изменение свойств и структуры поверхности семян зерновых культур под воздействием тлеющего разряда атмосферного давления (2019)
Выпуск: Том 7, № 3 (2019)
Авторы: Балданов Баир Батоевич, Ранжуров Цыремпил Валерьевич, Сордонова Маргарита Николаевна, Будажапов Лубсан-Зонды Владимирович

Исследовано воздействие тлеющего разряда атмосферного давления на поверхностные свойства семян зерновых культур. Показано, что плазменная обработка позволяет значительно улучшить контактные свойства поверхности семян и получить низкие значения краевых углов смачивания. Воздействие на оболочку семени неравновесной плазмы тлеющего разряда атмосферного давления приводит к модификации поверхности семени, заключающееся в проявлении на поверхности семени мелкоячеистой сетчатой структур. При увеличении длительности воздействия или мощности разряда эффекты травления на поверхности семени усиливаются, но при этом скорость прорастания семян не увеличивается с интенсификацией параметров обработки.

Сохранить в закладках
Разложение СО2 в барьерном разряде атмосферного давления (аналитический обзор) (2022)
Выпуск: том 10 № 2 (2022)
Авторы: Лебедев Юрий Анатольевич, Шахатов Вячеслав Анатольевич

Приведен аналитический обзор результатов исследований разложения углекислого газа в барьерном разряде атмосферного давления. Разложение углекислого газа CO2 в барьерном разряде происходит неравновесных условиях в результате диссоциативного возбуждения молекулы электронным ударом. Установлено, что степень разложения углекислого газа  и энергетическая эффективность устройства  не превышают   70 % и   23 %, соответственно. Эти параметры зависят от геометрии разряда, от вложенной в разряд мощности, расхода газа, зазора между электродами. Одним из перспективных путей увеличения эффективности барьерного разряда является наполнение зазора между электродами гранулами из различных материалов, включая катализаторы.

Сохранить в закладках